什么是蚀刻？蚀刻过程涉及哪些工序？

什么是蚀刻？蚀刻过程涉及哪些工序？

什么是蚀刻？通常指光化学蚀刻。这意味着在通过制版曝光和显影之后，要蚀刻的区域中的保护膜被去除。蚀刻时，使金属与化学溶液接触，利用两个正图案，从两面进行化学研磨，达到溶解腐蚀的效果，形成凹凸或镂空成型。化学蚀刻很有针对性，特指可控腐蚀，是通过化学方法对金属进行可控加工的方法。蚀刻包括干蚀刻和湿蚀刻。干法刻蚀可分为反应离子刻蚀(RIE)、溅射刻蚀和气相刻蚀。

对比蚀刻和冲压工艺的特点，蚀刻的优势在于制样成本低，蚀刻范围内几乎所有金属，对金属硬度没有限制，无划痕，无毛刺，设计快速，简单，效率高，制造过程48小时，材料厚度对公差影响10%，产品封装和转移方便。冲压制造成本高，虽然所有金属都可以进行，但是硬度过大或过小，容易破碎的金属无法使用，切割边缘有划痕，局部有毛刺，如果在设计过程中改变工艺非常耗时，成本高，工艺至少需要几周，产品的包装和转移困难。

涉及十个蚀刻过程:

1.工程制图。卓利达蚀刻工艺主要为图纸定制，可蚀刻厚度为0.03MM-2.0MM的各种材料；；公差可以控制在0.0075mm，工程图主要是CAD工程图。

2.原材料的准备。卓达蚀刻工艺主要涉及不锈钢(201、202、301、304、316和400)、铜、铝合金和钛合金，其中不锈钢(201、202、301、304、316和400)涉及较多。

3.处理。通过喷油清除材料表面的油污、灰尘、污垢和氧化膜。清洗工艺是保证后续薄膜或丝网印刷油墨对金属表面具有良好附着力的关键。

4.压制(层压)。根据需要双面涂布光敏胶，在涂布光敏层时，产品图案所需的蚀刻时间可考虑较厚或较薄的胶层，覆盖性能好，金属蚀刻产生的图案清晰度更高。

5.曝光。光掩模紫外曝光转移成像。

6.发展中。曝光后，图案固化，被腐蚀的部分曝光，去掉产品不需要的光敏胶层。

7.烘干。去除感光胶，使金属表面清洁，无粘连、杂质等。

8.蚀刻。金属被蚀刻液腐蚀，过程涉及溶液的浓度、温度、压力、速度等参数。

9.剥离(剥皮操作)。蚀刻后，用酸碱中和的方法使残留的光敏胶层膨胀，用清水和超声波清洗多余的光敏胶层。

10.检查包装和交付。标准化包装，将每件产品放入相应的包装盒内，并登记相应的明细。