金属蚀刻设备的原理及应用

　　金属蚀刻设备的原理及应用

　　蚀刻是指曝光制版工艺的发展，去除蚀刻区域的保护，在蚀刻工艺中与化学溶液接触以达到溶解和腐蚀的效果，形成凹凸或中空的成型效果。可用于制作第一版铜版、锌版等印刷凹版。金属蚀刻设备可分为化学蚀刻机和电解蚀刻机。基本原理是，在真空和低电压条件下，电感耦合等离子体电源的射频输出被送入环形耦合线圈，一种腐蚀性气体的混合物加上辉光放电产生高密度等离子体，轰击基板表面的电极，破坏图案区域的半导体材料键。所述挥发性材料由蚀刻气体产生，蚀刻气体以气体的形式从所述衬底分离并从所述真空管中抽出。化学蚀刻设备的原理和应用是利用化学溶液通过化学反应来实现蚀刻。化学蚀刻机是一种通过化学反应或物理冲击去除物质的技术。为了达到腐蚀的目的，利用金属阳极溶解的原理，以自来水或盐水为主要腐蚀体(在电解作用下)对液体中的金属进行腐蚀。

　　优点: 无污染，但一步蚀刻不污染，其它工艺也必须无污染，适合实验生产，小面积蚀刻凹字。它主要用于科学实验机器，或只是用于金属蚀刻痕迹，也称为电痕迹。缺点: 蚀刻面不均匀，蚀刻面积大，不能用于大规模生产，盲文蚀刻面积大，不能用于大规模生产和工艺标记。金属蚀刻设备主要用于航空、机械和标签行业。蚀刻技术广泛应用于轻型仪表面板、铭牌和薄型工件的加工，传统的加工方法难以实现。蚀刻是半导体和电路板制造中不可缺少的技术。广泛用于金卡标签加工、手机按键加工、不锈钢过滤器加工、不锈钢电梯装饰板加工、金属线框加工、金属眼镜加工、电路板加工、金属装饰板加工等工业应用。